单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计,到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管,其功能远比我们想象的要大的多,这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅,其化学方程式为:①SiO2 + 2C Si + 2CO②Si + 2Cl2SiCl4 ③SiCl4 + 2H2Si + 4HCl,其中反应①和③属于( )
实验室中欲快速制取氢气,最好的方法应该是()
表示正反应是吸热反应的图像是()
相同质量的下列物质分别与等浓度的NaOH溶液反应至体系中均无固体物质,消耗碱量最多的是:
往含I-和Cl-的稀溶液中滴人AgNO3溶液,沉淀的质量与加入AgNO3溶液体积的关系如右图所示。则原溶液中c(I-)/c(Cl-)的比值为:
某溶液中只含Na+、Al3+、Cl―、SO42―,已知前三种离子的个数比为3 : 2 : 1,则溶液中c(Al3+) 和c(SO42―) 之比为: