单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计，到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大的多，这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为：
①SiO2 + 2C 
Si + 2CO②Si + 2Cl2
SiCl4 ③SiCl4 + 2H2
Si + 4HCl，
其中反应①和③属于（ ）
| A．化合反应 | B．分解反应 | C．置换反应 | D．复分解反应 |
相关试题
要证明某溶液中不含Fe3+，而可能含有Fe2+，进行如下实验操作的最佳顺序为（）
①加入足量氯水②加入足量KMnO4（H+）溶液③加入少量NH4SCN溶液
| A．①③ | B．③② | C．③① | D．①②③ |
下列叙述中不正确的是（）
| A．可用装置①鉴别碳酸钠和碳酸氢钠 |
| B．可用装置②分离汽油和水的混合物 |
| C．可用装置③从海水中蒸馏得到淡水 |
| D．可用装置④把胶体粒子从分散系中分离出来 |
为确定某溶液的离子组成，进行如下实验：
①测定溶液的pH，溶液显强碱性。
②取少量溶液加入稀盐酸至溶液呈酸性，产生无刺激性、能使澄清石灰水变浑浊的气体。
③在上述溶液中再滴加Ba(NO3)2溶液，产生白色沉淀。
④取上层清液继续滴加Ba(NO3)2溶液至无沉淀时，再滴加AgNO3溶液，产生白色沉淀。
根据实验以下推测正确的是（）
| A．一定有SO32－离子 | B．一定有HCO3－离子 |
| C．不能确定Cl－离子是否存在 | D．不能确定CO32－离子是否存在 |
下列除去杂质的方法正确的是（）
| A．除去FeCl2溶液中少量FeCl3，加入足量的铁屑，充分反应后，过滤 |
| B．除去KCl溶液中少量MgCl2，加入足量的NaOH溶液，过滤 |
| C．除去N2中少量O2，通过灼热的CuO粉末，收集气体 |
| D．除去CO2中少量HCl，通入Na2CO3溶液，收集气体 |
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