在一定体积的密闭容器中放入3升气体R和5升气体Q，在一定条件下发生反应：3R（气）+4Q（气）
4X（气）+nY（气）。反应完全后，容器温度不变，混和气体的压强是原来的75%，则化学方程式中的n值是（ ）
| A．2 | B．3 | C．4 | D．5 |
相关试题
四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：
SiCl4＋2H2
4HCl＋Si
下列说法不合理的是
| A．反应制得的硅可用于制造半导体材料 |
| B．增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率 |
| C．四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得 |
| D．混入少量空气对上述反应无影响 |
下列图示与对应的叙述相符的是
| A．图1表示某吸热反应分别在有、无催化剂的情况下反应过程中的能量变化 |
| B．图2表示0.1000 mol·L－1NaOH溶液滴定20.00 mL 0.1000 mol·L－1CH3COOH溶液所得到的滴定曲线 |
| C．图3表示KNO3的溶解度曲线，图中a点所示的溶液是80 ℃时KNO3的不饱和溶液 |
| D．图4表示某可逆反应生成物的量随反应时间变化的曲线，由图知t时刻反应物转化率最大 |
(NH4)2PtCl6晶体受热分解，生成氮气、氯化氢、氯化铵和金属铂。在此分解反应中，氧化产物与还原产物的物质的量之比是
| A．2∶3 | B．3∶2 |
| C．4∶3 | D．1∶3 |
的溶液中：
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