三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5 H2O 2NO+HNO3+9 HF,下列有关该反应的说法正确的是
下列有关族的叙述正确的是()
下列措施不能加快化学反应速率的是()
下列粒子的结构示意图中,表示氟离子的是()
下列关于卤素(F、Cl、Br、I)的叙述中,正确的是()
下列元素中,属于第三周期IIA族元素的是()