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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。下列有关说法正确的是
| A．NF3既是氧化剂，又是还原剂 |
| B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1 |
| C．若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子 |
| D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生无色气体 |
下列化学应用中不涉及氧化还原反应的是
| A．工业上由硅的氧化物制备硅单质 |
| B．生活中使用明矾净水，除去水中的悬浮的微小颗粒 |
| C．漂白粉用作疫区的环境消毒 |
| D．过氧化钠用作呼吸面具的供氧剂 |
分类是化学学习和研究的常用手段，下列分类依据和结论都正确的是
| A．H2O、HCOOH、Cu2(OH)2CO3均含有氧元素，都是氧化物 |
| B．HCOOH、H2CO3、H2SO4分子中均含有两个氢原子，都是二元酸 |
| C．HF、CH3CH2OH、NaOH都易溶于水，都是电解质 |
| D．HClO、H2SO4(浓)、HNO3均具有氧化性，都是氧化性酸 |
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