三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮

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三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3NF₃+ 5H₂O =" 2NO" + HNO₃+ 9HF下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．还原剂和氧化剂的物质的量之比是2:1

C．若生成0.2mol HNO₃，则转移0.4mol电子

D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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下列各组物质中化学键类型与晶体类型均相同的是（）

A．HCl NaCl	B．SiO₂CO₂
C．Na₂CO₃ KClO₃	D．H₂O₂ Na₂O₂

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下列关于氢键的说法中正确的是（）

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C．分子内形成的氢键使物质的熔点和沸点升高

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B．N₂

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A．ns²np³

B．ns²np⁵

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