三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3 + 5H2O =" 2NO" + HNO3 + 9HF下列有关该反应的说法正确的是
已知下列各组反应,对应的离子方程式正确的是 ( )
NaHCO3和NaHSO4的溶液混合后实际参加反应的离子是 ( )