下列关于氧化还原反应的叙述,正确的是
电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是: SiO2(s)+4HF(g)=Si F4(g)+2H2O(g) ΔH(298.15K)=-94.0 kJ·mol-1 ΔS(298.15K)=-75.8 J·mol-1·K -1 ,设ΔH和ΔS不随温度而变化,试求此反应自发进行的温度条件?
碳酸铵[(NH4)2CO3]在室温下就能自发地分解产生氨气,对其说法正确的( )
下列过程是非自发的是( )
在298K,下列反应中△H-T△S与△H最接近的是( )
在298K,往1mL的水中加入1mol NaCl(s),则溶解过程的( )