首页 / 高中化学 / 试题详细
  • 更新 2022-09-03
  • 科目 化学
  • 题型 填空题
  • 难度 中等
  • 浏览 512

(8分) 三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它能发生如下反应:3NF3+5H2O===2NO+HNO3+9HF。请回答下列问题:
⑴NF3中氮元素的化合价为       
⑵NF3        大于HNO3(填氧化性或还原性);
⑶在上述反应中还原剂与氧化剂的物质的量之比为         
⑷若生成0.2 mol HNO3,则转移的电子数为       

登录免费查看答案和解析

(8分)三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体