(8分) 三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它能发生如下反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。请回答下列问题：
⑴NF3中氮元素的化合价为 ；
⑵NF3的 大于HNO3（填氧化性或还原性）；
⑶在上述反应中还原剂与氧化剂的物质的量之比为 ；
⑷若生成0.2 mol HNO3，则转移的电子数为 ；
相关试题
已知卤代烃（R-X）在碱性条件下可水解得到醇（R-OH），如：CH3CH2-X+H2O 
CH3CH2-OH+HR，现有如下转化关系: 
回答下列问题：
（1）反应1的试剂与条件为 __________，X的结构简式为______，Y的结构简式为______；
（2）写出反应3的方程式___________________________________。
某有机物的结构简式为：
（1）该有机物中所含官能团的名称是_______________________________________；
（2）该有机物发生加聚反应后，所得产物的结构简式为_______________________；
（3）写出该有机物发生催化氧化的化学方程式（注明反应条件）_______________。
已知
可简写为
。降冰片烯的分子结构可表示为：
（1）降冰片烯属于__________。A．环烃 B．不饱和烃 C．烷烃 D．芳香烃
（2）降冰片烯的分子式为__________。
（3）降冰片烯的一种同分异构体（含有一个六元环的单环化合物）的结构简式为 _________。
（4）降冰片烯不具有的性质__________。
A．能溶于水 B．能发生氧化反应 C．能发生加成反应 D．常温常压下为气体25．
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