(8分) 三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它能发生如下反应：3NF3＋5H2O===2NO＋HNO3＋9HF。请回答下列问题：
⑴NF3中氮元素的化合价为 ；
⑵NF3的 大于HNO3（填氧化性或还原性）；
⑶在上述反应中还原剂与氧化剂的物质的量之比为 ；
⑷若生成0.2 mol HNO3，则转移的电子数为 ；
相关试题
A、B、C三种物质的分子式都是C7H8O，若滴入FeCl3溶液，只有C呈紫色，且C苯环上的一溴代物有两种结构。若投入金属钠，只有B没有变化。
（1）写出A、B、C的结构简式：A__________，B__________，C__________。
（2）C的同一类中另外两种同分异构体的结构简式是①__________，②__________。
,有关它的叙述错误的是
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