三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体。它无色、无臭,在潮湿的空气中能发生下列反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF,下列有关说法正确的是
工业上冶炼金属的方法正确的是
室温下,下列图形与实验过程相符合的是
参照反应Br+H2HBr+H的能量对反应历程的示意图,下列叙述中正确的是
近年来研制的NH3气体可用作氟化氢一氟化氚高能化学激光器的氟源,也可作为火箭推进剂,NF3可用NH3与氟气制取,化学方程式为:4NH3+3F2NF3+3H4F,下列说法不正确的是
X、Y、Z、W均为短周期主族元素,下图为周期表的一部分。下列说法正确的是