三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的刻蚀气体，它在潮湿的环

三氟化氮（NF₃）是微电子工业中优良的刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：
3 NF₃ + 5 H₂O =" 2" NO + HNO₃ + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是

A．NF₃在潮湿的空气中泄漏时容易被发现

B．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

C．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2:1

D．若转移0.2mol电子时，生成NO气体4.48Ｌ

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三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的刻蚀气体，它在潮湿的环

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