三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:
3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是
A.NF3在潮湿的空气中泄漏时容易被发现 |
B.NF3是氧化剂,H2O是还原剂 |
C.氧化产物与还原产物的物质的量之比为2:1 |
D.若转移0.2mol电子时,生成NO气体4.48L |
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:
3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是
A.NF3在潮湿的空气中泄漏时容易被发现 |
B.NF3是氧化剂,H2O是还原剂 |
C.氧化产物与还原产物的物质的量之比为2:1 |
D.若转移0.2mol电子时,生成NO气体4.48L |