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  • 更新 2022-09-03
  • 科目 化学
  • 题型 选择题
  • 难度 较难
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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:
3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是

A.NF3在潮湿的空气中泄漏时容易被发现
B.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
C.氧化产物与还原产物的物质的量之比为2:1
D.若转移0.2mol电子时,生成NO气体4.48L
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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的刻蚀气体,它在潮湿的环