含下列离子的溶液均不能大量共存，但原因不是发生氧化还原反应的

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含下列离子的溶液均不能大量共存，但原因不是发生氧化还原反应的是
①．H₃O^＋、NO₃^－、Fe²^＋、Na^＋ ②．Fe³^＋、NO₃^－、I^－、K^＋
③．K^＋、Na^＋、H⁺、S₂O₃²^－ ④．Cu²^＋、NH₄^＋、Br^－、OH^－

A．①

B．②

C．③

D．④

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将含有0.1 mol SiO₂的铝、硅混合物分别与足量NaOH溶液、盐酸混合，充分反应后前者可得到11.2 L气体(标准状况)，后者可得到6.72 L气体(标准状况)，则参加反应的n(HCl)与n(NaOH)之比为(　　)。

A．1∶1

B．1∶2

C．2∶1

D．3∶1

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寿山石主要成分为叶蜡石，叶蜡石组成为Al₂O₃·4SiO₂·H₂O，下列观点不正确的是(　　)。

A．寿山石雕刻作品要避免与酸、碱接触

B．寿山石颜色丰富多彩是因为含有不同形态的金属氧化物

C．潮湿的空气可能导致寿山石作品表面溶解变质

D．置于干燥空气中可能会导致寿山石作品脱水变质

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下列关于SiO₂和CO₂的叙述中不正确的是(　　)。

A．都是共价化合物

B．SiO₂可用于制光导纤维，干冰可用于人工降雨

C．都能溶于水且与水反应生成相应的酸

D．都是酸性氧化物，都能与强碱溶液反应

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下列说法正确的是(　　)。

A．高温下，可在试管内完成焦炭和石英砂(SiO₂)制取硅的反应

B．CO₂和钠在一定条件下反应可以得到金刚石和碳酸钠，反应中氧化剂和还原剂的物质的量之比是3∶4

C．现代海战通过喷放液体SiCl₄(极易水解)和液氨可产生烟幕，其主要成分是NH₄Cl

D．从燃煤烟道灰中(含GeO₂)提取半导体材料单质锗(Ge)，没有发生氧化还原反应

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在①浓硝酸；②水；③浓硫酸；④氢氟酸；⑤氢氧化钾溶液中，能与单质硅起化学反应的是(　　)。

A．①②

B．②④

C．④⑤

D．③④

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