氮化硅（Si₃N₄）是一种优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域有重要用途．
I.工业上有多种方法来制备氮化硅，常见的方法有：
方法一 直接氮化法：在1300℃-1400℃时，高纯粉状硅与纯氮气化合，其反应方程式为            .
方法二 化学气相沉积法：在高温条件下利用四氯化硅气体、纯氮气、氢气反应生成氮化硅和HCl，与方法一相比，用此法制得的氮化硅纯度较高，其原因是          .
方法三  Si(NH₂)₄热分解法：先用四氯化硅与氨气反应生成Si(NH₂)₄和一种气体（填分子式）     ；然后使Si(NH₂)₄受热分解，分解后的另一种产物的分子式为          ．
II.工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下：

已知：X、高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应，Y与X在光照或点燃条件下可反应，Z的焰色呈黄色．
（1）写出焦炭与原料B中的主要成分反应的化学方程式：                       ．
（2）上述生产流程中电解A的水溶液的化学方程式：                       ．