（共12分）写出下列反应的化学方程式
（1） 乙烯的水化
（2） 丙烯的加聚反应
（3） 苯的溴代
（4） 甲苯的硝化
（5） 二丙醇的氧化反应
（6）乙烯的实验室制取原理
分工业上利用锌焙砂(主要含ZnO、ZnFe2O4，还含有少量CaO、FeO、CuO、NiO等氧化物)制取金属锌的流程如图所示。回答下列问题：
（1）酸浸时ZnFe2O4会生成两种盐，该反应的化学方程式为___________。
（2）净化Ⅰ操作分为两步：第一步是将溶液中少量的Fe2＋氧化；第二步是控制溶液pH，使Fe3＋转化为Fe(OH)3沉淀。
①写出酸性条件下H2O2与Fe2＋反应的离子方程式：___________。
②25 ℃时，pH＝3的溶液中，c(Fe3＋)＝___________mol·L－1（已知25 ℃，Ksp[Fe( OH)3]＝4.0×10－38）。
③净化Ⅰ生成的沉淀中还含有溶液中的悬浮杂质，溶液中的悬浮杂质被共同沉淀的原因是_______________。
（3）若没有净化Ⅱ操作，则对锌的制备带来的影响是_________________。
（4）本流程中可以循环利用的物质除锌外还有________________。
次磷酸H3PO2是一种强还原剂，将它加入CuSO4水溶液，加热到40～50℃，析出一种红棕色的难溶物A。经鉴定：反应后的溶液是磷酸和硫酸的混合物；X射线衍射证实A中各元素的原子个数相等；A的主要化学性质如下：
①温度超过60℃，分解成金属铜和一种气体；
②在氯气中着火；
③与盐酸反应放出气体。
（1）A的化学式为
（2）A的生成反应方程式为
氮化硅硬度大、熔点高、不溶于酸（氢氟酸除外），是一种重要的结构陶瓷材料。一种用工业硅（含少量钾、钠、铁、铜的氧化物），已知硅的熔点是1420℃，高温下氧气及水蒸气能明显腐蚀氮化硅。一种合成氮化硅的工艺主要流程如下：
（1）净化N2和H2时，铜屑的作用是：_________________；硅胶的作用是 。
（2）在氮化炉中3Si(s)+2N2(g)=Si3N4(s) △H=－727.5kJ/mol，开始时为什么要严格控制氮气的流速以控制温度： ；
（3）X可能是 （选填：“盐酸”、“硝酸”、“硫酸”、“氢氟酸”）
（4）如何说明氮化硅产品已用水洗干净？ 。
（5）用硅粉作硅源、叠氮化钠（NaN3）作氮源，直接燃烧生成氮化硅（发生置换反应），该反应的化学方程式为： 。
（1）膦（PH3）是一种无色有剧毒的气体，其还原能力比氨（NH3）强，是一种强还原剂。某反应体系中存在下列物质：Cu、H2SO4、CuSO4、PH3、H3PO4、H2O。回答下列问题：
①上述反应体系中化学反应方程式为 ；
②膦（PH3）能和水发生微弱的化学反应，其水溶液呈弱碱性，该反应可用离子方程式表示为 。
（2）生活污水中含大量细小的悬浮物，可加某些物质使之聚集成较大的颗粒而沉淀。请你举一种常见的能使生活污水中悬浮物聚沉的物质，其化学式为 。
（3）用CH4催化还原NOX可以消除氮氧化物的污染。例如
CH4（g）+4NO2（g）4NO（g）+CO2（g）+2H2O(g) △H1=-574kJ·mol-1
CH4（g）+4NO（g）2N2（g）+CO2（g）+2H2O（g） △H2
若1mol CH4还原NO2至N2，整个过程中放出的热量为867kJ，则△H2= 。
A、B、C、D都是中学化学中常见物质，其中A、B、C均含有同一种元素，在一定条件下相互转化关系如下（部分反应中的水已略去）。
（1）若A为氯碱工业的产品，C为厨房中的用品。
①D的电子式是
②反应Ⅲ的离子方程式是 。
③氯碱工业制备A的反应，其中两种产物可与KI溶液反应制得一种化工原料，若消耗0.1 mol KI转移电子0.6 mol，则三种物质间反应的离子方程式是 。
（2）若A、D均为单质，且A为气体，D元素的一种红棕色氧化物常用作颜料。
①反应Ⅲ的离子方程式是 。
② B可作净水剂，在使用时发现B不能使酸性废水中的悬浮物沉降除去，其原因是______________。
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