(16分)氨气是一种重要的基础化工原料,用途广泛。
(1)在微电子工业中,氨水可作刻蚀剂H2O2的清除剂,产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH3 + 3H2O2= +6H2O
(2)工业中常用以下反应合成氨:N2+3H22NH3 △H<0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中,分别加入N2和H2,浓度均为c(N2) =" 0.100mol/L," c(H2) = 0.300mol/L,进行反应时, N2的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。
该反应平衡常数的数学表达式为 ;实验②平衡时H2的转化率为_____ 。
(3)据图所示,②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出,并说明判断的理由。
②条件:_______ 理由: ________
③条件:_______ 理由: ________