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  • 更新 2022-09-03
  • 科目 化学
  • 题型 填空题
  • 难度 中等
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(16分)氨气是一种重要的基础化工原料,用途广泛。
(1)在微电子工业中,氨水可作刻蚀剂H2O2的清除剂,产物不污染环境。该反应的化学方程式为2NH+ 3H2O2=         +6H2O
(2)工业中常用以下反应合成氨:N2+3H22NH△H<0。某实验室在三个不同条件的密闭容器中,分别加入N2和H2,浓度均为c(N2) =" 0.100mol/L," c(H2) = 0.300mol/L,进行反应时, N2的浓度随时间的变化如图①、②、③曲线所示。

该反应平衡常数的数学表达式为            ;实验②平衡时H2的转化率为_____       
(3)据图所示,②、③两装置中各有一个条件与①不同。请指出,并说明判断的理由。
②条件:_______     理由:                                     ________
③条件:_______     理由:                                     ________

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(16分)氨气是一种重要的基础化工原料,用途广泛。(1)在微