工业上用“三氯氢硅还原法”制备纯硅的工业流程如图:
(1)石英砂的主要成分是 (填化学式),在制备粗硅时焦炭的作用是 。
(2)制备三氯氢硅的反应:
Si(s)+3HCl(g)SiHCl3(g)+H2(g)
伴随的副反应为:
Si(s)+4HCl(g) SiCl4(g)+2H2(g)
已知SiHCl3和SiCl4常温下均为液体,工业上分离SiHCl3和SiCl4的操作方法
为 ;
写出SiHCl3(g)和HCl反应生成SiCl4(g)和H2的热化学方程式 。
(3)该生产工艺中可以循环使用的物质是 。
(4)实验室用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下图(热源及夹持装置略去).已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。
①装置B中的试剂是 (填名称),装置C中的烧瓶需要加热,其目的是 。
②实验中先让稀硫酸与锌粒反应一段时间后,再加热C、D装置的理由是 ,装置D中发生反应的化学方程式为 。