三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是
下列关于自然界中碳循环(如图)的说法中,不正确的是
过氧化钠和水反应的离子方程式是
下列有关物质用途的说法中,不正确的是
下列关于容量瓶的使用方法中,正确的是
下列关于硫酸的叙述中,正确的是