单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计，到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大的多，这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为： ①SiO2 + 2C
Si + 2CO
②Si + 2Cl2
SiCl4 ③SiCl4 + 2H2
Si + 4HCl，其中反应①和③属于（ ）
| A．化合反应 | B．分解反应 |
| C．置换反应 | D．复分解反应 |
相关试题
某温度下，饱和石灰水的溶解度为s g ，密度为 ρg/mL，向足量该饱和溶液中加入 m g CaO，充分作用后，恢复到原来温度，下列有关说法不正确的是
A．最终得到沉淀的质量大于 |
B．该饱和溶液质量百分比浓度为： |
| C．最终所得溶液PH不变 |
D．该饱和溶液中溶质物质的量浓度为： mol/L |
由下列反应得出的结论中正确的是
A．MnO2+4HCl(浓) MnCl2+Cl2↑+2H2O还原性由强到弱：HCl(浓)>MnCl2 |
| B．H2S + CuSO4 =" CuS↓+" H2SO4酸性由强到弱：H2S>H2SO4 |
| C．2KClO3+I2=2KIO3+Cl2非金属性由强到弱：I>Cl |
| D．NaAlO2 + NaHCO3 + H2O = Al(OH)3 ↓+ Na2CO3电离由易到难：Al(OH)3>HCO3- |
工业上以铬铁矿（主要成分为FeO·Cr2O3）、碳酸钠、氧气、和硫酸为原料生产重铬酸钠（Na2Cr2O7·2H2O），其主要反应为：
（1）4FeO·Cr2O3 + 8Na2CO3 + 7O2
8Na2CrO4 + 2Fe2O3 + 8CO2
(2)2Na2CrO4 + H2SO4
Na2SO4 + Na2Cr2O7 + H2O
下列说法正确的是
| A．反应（1）和（2）均为氧化还原反应 |
| B．反应（1）的氧化剂是O2，还原剂是FeO·Cr2O3 |
| C．高温下，O2的氧化性强于Fe2O3，弱于Na2CrO4 |
| D．反应（1）中每生成1molNa2CrO4时电子转移3mol |
下列离子方程式正确的是
A．向NH4HSO3溶液中，加入过量的氢氧化钠溶液，并加热 NH4++OH- NH3↑+H2O |
| B．向FeBr2溶液中通入过量氯气 2Fe2++2Br-+2Cl2=2Fe3++Br2+4Cl- |
| C．向次氯酸钠溶液中通入少量SO2气体 2ClO- + SO2 + H2O =" 2HClO" + SO32- |
| D．实验室制氯气 MnO2 + 4H+ + 2Cl-Mn2+ + Cl2 ↑+2 H2O |
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