单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计，到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大的多，这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为： ①SiO2 + 2C
Si + 2CO
②Si + 2Cl2
SiCl4 ③SiCl4 + 2H2
Si + 4HCl，其中反应①和③属于（ ）
| A．化合反应 | B．分解反应 |
| C．置换反应 | D．复分解反应 |
相关试题
下列叙述不正确的是（ ）
A．向澄清石灰水中通入CO2产生白色沉淀 ，再通入过量CO2，沉淀消失 |
| B．向AlCl3溶液中滴加NaOH溶液，产生白色沉淀，再加入过量NaOH溶液，沉淀消失 |
| C．向AgNO3溶液中滴加氨水，产生白色沉淀，再加入过量氨水，沉淀消失 |
| D．向Na2SiO3溶液中滴加盐酸，产生白色沉淀，再加入过量盐酸，沉淀消失 |
用NA表示阿伏加德罗常数的值，下列说法正确的是（ ）
| A．由2H2（g）+ O2(g)=2H2O(l) ΔH=" -571.6KJ·" mol-1可知，0.5 NA个H2分子完全燃烧生成气态水，放出的热量大于142.9 KJ |
| B．标准状况下，5.6 L SO2和5.6 L H2S混合后的气体分子总数为0.5 NA |
| C．Na2O2粉末与水反应，如产生0.5mol O2 ，则反应中转移电子数为NA |
| D．在1 L 0.1 mol/L醋酸钠溶液中， CH3COO- 离子总数为0.1 NA |
甲、乙、丙、丁分别是NaOH、Al2(SO4)3、MgSO4、BaCl2四种物质中的一种，若将丙溶液逐滴滴入甲溶液，发现开始时无沉淀，继续滴加产生沉淀，最终沉淀不消失，若将丙溶液滴入丁溶液产生沉淀，据此推断乙溶液是（ ）
| A．NaOH | B．Al2(SO4)3 | C．MgSO4 | D．BaCl2 |
将5.1g镁铝合金投入到500mL 2 mol/L的盐酸中，金属完全溶解，再加入250mL的NaOH溶液，若要使生成的沉淀最多，则应加入的这种NaOH溶液的物质的量浓度是（ ）
| A．1mol/L | B．2mol/L | C．3mol/L | D．4mol/L |
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