单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计，到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大的多，这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为： ①SiO2 + 2C
Si + 2CO
②Si + 2Cl2
SiCl4 ③SiCl4 + 2H2
Si + 4HCl，其中反应①和③属于（ ）
| A．化合反应 | B．分解反应 |
| C．置换反应 | D．复分解反应 |
相关试题
下列有关说法正确的是
| A．9.2 g NO2气体中含有分子数目为0.2NA |
| B．标准状况下，2.24 L SO3中含有氧原子数目为0.3NA |
| C．2 g DO中含中子、质子、电子数目均为NA |
| D．标准状况下2.24 L Cl2通入足量水中或NaOH溶液中，转移电子数目均为0.1NA |
常温下，下列各组离子在指定溶液中一定能大量共存的是
| A．1.0 mol·L－1 KNO3溶液：H＋、Fe2＋、SCN－、SO42- |
| B．c(H＋)/c(OH－)＝10－10的溶液：K＋、Ba2＋、NO3- 、Cl－ |
| C．pH＝0的溶液：Al3＋、Ag(NH3)2+、Cl－、SO42- |
| D．c(ClO－)＝1.0 mol·L－1的溶液：Na＋、SO32-、S2－、SO42- |
有M、X、Y、Z、W五种原子序数依次增大的短周期元素，其中M、Z同主族；X＋与M2－具有相同的电子层结构；离子半径：Z2－＞W－；Y的单质晶体熔点高、硬度大，是一种重要的半导体材料。下列说法正确的是
| A．X、M两种元素形成的化合物只能存在离子键 |
| B．元素Y、Z、W形成的单质中，每1 mol它们的单质均含有NA个分子 |
| C．由于W、Z、M元素的氢化物相对分子质量依次减小，所以其沸点依次降低 |
| D．元素W和M的某些单质可作为水处理中的消毒剂 |
某温度时，在密闭容器中X、Y、Z三种气体浓度的变化如图甲所示，若其他条件不变，当温度分别为T1和T2时，Y的体积分数与时间关系如图乙所示。则下列结论正确的是
A．该反应的热化学方程式为X(g)＋3Y(g)  2Z(g) ΔH>0 |
| B．若其他条件不变，升高温度，正、逆反应速率均增大，X的转化率减小 |
| C．达到平衡后，若其他条件不变，减小容器体积，平衡向逆反应方向移动 |
| D．达到平衡后，若其他条件不变，通入稀有气体，平衡向正反应方向移动 |
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