三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮

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更新 2022-09-03
科目化学
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难度容易
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三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：NF₃＋H₂O→NO＋HNO₃＋HF（没配平）。下列有关说法正确的是 (　　)

A．NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂

B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1

C．若生成0.2 mol HNO₃，则转移0.2 mol电子

D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

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