A、B、C、D为短周期中相邻两周期中的元素，其原子序数A＞B＞C＞D，D和A形成简单离子后，它们的电子层相差两层，已知A处于第n族，D处于第m族，且A单质中含有共价键，B的气态氢化物的分子式为H2B，在其最高价氧化物中B的质量分数为40%，B原子核内质子数和中子数相等，C和A形成CA3型化合物，C与A、B在同一周期，B与A左右相邻，试回答：
(1)C离子的结构示意图为 [
(2)向B的氢化物的水溶液中滴入A单质的水溶液，发生反应的化学方程式为 .
(3)向A、C形成的化合物的水溶液中滴入氨水，其反应的离子方程式为___________________
用实验确定某酸HA是弱电解质。两同学的方案是：
甲：①称取一定质量的HA配制0.1 mol·L－1的溶液 100 mL；②用pH试纸测出该溶液的pH，即可证明HA是弱电解质。
乙：①用已知物质的量浓度的HA溶液、盐酸，分别配制pH＝1的两种酸溶液各100 mL；②分别取这两种溶液各10 mL，加水稀释为100 mL；③各取相同体积的两种稀释液装入两个试管，同时加入纯度相同的锌粒，观察现象，即可证明HA是弱电
解质。
（1）在两个方案的第①步中，都要用到的定量仪器是 。
（2）甲方案中，说明HA是弱电解质的理由是测得溶液的pH 1（选填＞、＜、＝）。
乙方案中，说明HA是弱电解质的现象是 （多选扣分）
a.装HCl溶液的试管中放出H2的速率快；
b.装HA溶液的试管中放出H2的速率快；
c.两个试管中产生气体速率一样快：
（3）请你评价乙方案中难以实现之处和不妥之处。
_________________________________________________________________。
工业废水中常含有一定量的Cr2O72—和CrO42—，它们会对人类及生态系统产生很大的伤害，必须进行处理。常用的处理方法有两种：还原沉淀法和电解法。还原沉淀法的工艺流程为：其中第①步存在平衡：2CrO42—（黄色）+2H+
Cr2O72—（橙色）+H2O
（1）若平衡体系的pH=2，则溶液显 色.
（2）能说明第①步反应达平衡状态的是 。
a．Cr2O72—和CrO42—的浓度相同 b．2v (Cr2O72—) ="v" (CrO42—) c．溶液的颜色不变
（3）第②步中，还原1mol Cr2O72—离子，需要________mol的FeSO4·7H2O。
( 4 ) 第③步生成的Cr(OH)3在溶液中存在以下沉淀溶解平衡：
Cr(OH)3(s)Cr3+(aq)+3OH—(aq)
常温下，Cr(OH)3的溶度积Ksp＝c(Cr3+)·c3(OH—)＝10-32，要使c(Cr3+)降至10-5mol/L，溶液的pH应调至 。
(8分)在t℃时，某NaOH稀溶液中，c(H+)=10-amol/L，c(OH-)=10-bmol/L，已知a+b=12,则：
（1）该温度下，水的离子积常数kw= 。
（2）在该温度下，将100mL0.1mol/L的稀硫酸与100mL0.4mol/L的NaOH溶液混合后，溶液的pH= 。
（3）该温度下，若1体积pH1=a的某强酸溶液与10体积pH2=b的某强碱溶液混合后溶液呈中性，则混合前，a和b之间应满足的关系是 。（列出含a、b的式子）
（4）该温度下，pH=2的某酸HA溶液和pH=10的NaOH溶液等体积混合后，混合溶液的pH=5。试分析其原因 。
对金属制品进行抗腐蚀处理，可延长其使用寿命。以下为铝材表面处理的一种方法：
(1)碱洗的目的是除去铝材表面的自然氧化膜，碱洗时候常有气泡冒出，原因是
（用离子方程式表示）；
往废电解液中加入NaHCO3时会出现气泡，原因是 （用离子方程式表示）
(2)为将碱洗槽液中的铝以沉淀形式回收，最好向槽液中加入下列试剂中的
| A．NH3 | B．CO2 | C．NaOH | D．HNO3 |
(3)耐蚀铝材因为其表面形成坚硬的 （填化学式），这种物质有时候也可以用来作耐火材料，是因为
(8分)已知将盐酸滴入高锰酸钾溶液中，产生黄绿色气体，而溶液的紫红色褪去，发生的反应：2MnO4- +16H+ + 10Cl- ="==" 2Mn2+ + 5Cl2↑ + 8H2O.现有一个氧化还原反应中，已知反应物和生成物有KCl、H2SO4、KMnO4、MnSO4、H2O、K2SO4、Cl2
(1)已知该反应中，KMnO4得到电子，写出一个包含上述七种物质的氧化还原反应方程式(不需要配平) ;则反应的还原剂为
(2)上述反应中，1mol氧化剂在反应中得到 电子
(3)如果在反应后的溶液中加入NaBiO3，溶液又变回紫红色，请判断下列正确的是
| A．氧化性：BiO3-＞MnO4-＞Cl2 | B．氧化性：BiO3-＞Cl2＞MnO4- |
| C．氧化性：MnO4-＞BiO3-＞Cl2 | D．氧化性：Cl2＞MnO4-＞BiO3- |
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