向一容积为1L的密闭容器中加入一定量的X、Y，发生化学反应aX(g)＋2Y(s)
bZ(g)；△H＜0。如图是容器中X、Z的物质的量浓度随时间变化的曲线。下列说法正确的是（ ）
A．用Y表示0~10min内该反应的平均速率为0.05mol/(L·min)
B．根据上图可求得方程式中a：b＝2：1
0～10min容器内气体的压强逐渐增大
D．第13min时曲线变化的原因可能是增加了Z的量
相关试题
下列反应的离子方程式正确的是
| A．铜片插入氯化铁溶液中： Cu＋Fe3＋＝Cu2＋＋Fe2+ |
| B．漂白粉溶液中通入过量的二氧化碳：Ca2++2ClO－+CO2+H2O====CaCO3↓+2HClO |
C．用小苏打治疗胃酸过多：HCO3－＋ H ＋＝ H2O ＋ CO2↑ |
| D．NaOH和Ba(OH)2混合溶液中通入少量CO2 ：2OH－＋ CO2＝CO32－＋H2O |
用NA表示阿伏加德罗常数的值。下列叙述正确的是
| A．1mol·L-1NaCl溶液含有NA个Na+ |
| B．电解精炼铜时转移了6.02×1023个电子，阳极溶解32 g铜 |
| C．任意条件下，16g O3所含的原子数为NA |
| D．标准状况下，22.4 L SO3所含的分子数为NA |
下列浓度
关系正确的是
| A．氯水中：c(Cl2) = 2[c(ClO－)＋c(Cl－)＋c(HClO)] |
| B．氯水中：c(Cl－)＞c(H＋)＞c(OH－)＞c(ClO－) |
C．等 体积等浓度的氢氧化钠与醋酸混合：c(Na＋) = c(CH3COO－) |
| D．Na2CO3溶液中：c(Na＋)＞c(CO32－)＞c(OH－)＞c(HCO3－ )＞c(H＋) |
半导体工业用石英砂做原料，通过三个重要反应生产单质硅：
①SiO2(s)+2C(s) =" Si(s)+2CO(g)" △H =" +682.44" kJ/mol
(石英砂)（粗硅）
②Si(s)+2Cl2(g) = SiCl4(g)△H = -657.01kJ/mol
(粗硅)
③SiCl4(g)+2Mg(s) 
= 2MgCl2(s)+Si(s)△H =" -625.63" kJ/mol
（纯硅）
生产1.00kg纯硅的总反应热为
| A．+2.43×104kJ | B．-2.35×104kJ | C．-2.23×104kJ | D．-2.14×104kJ |
非电解质 硫酸钡—强电解质 醋酸—弱电解质
粤公网安备 44130202000953号