三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是 （ ）
| A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂 |
| B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1 |
| C．若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子 |
| D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体 |
三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是 （ ）
| A．NF3是氧化剂，H2O是还原剂 |
| B．还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1 |
| C．若生成0.2 mol HNO3，则转移0.2 mol电子 |
| D．NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体 |
，
，那么
的值是 ( )
的前
项和
，则
的值是( )
（）
作圆
的两条切线，切点分别为
、
，
为坐标原点，则
的外接圆方程是
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