三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体。它

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三氟化氮(NF₃)是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体。它无色、无臭，在潮湿的空气中能发生下列反应：3NF₃＋5H₂O＝2NO＋HNO₃＋9HF，下列有关说法正确的是

A．反应中NF₃是氧化剂，H₂O是还原剂（）

B．反应中被氧化与被还原的原子物质的量之比为2∶1

C．若反应中生成0.2mol HNO₃，则反应共转移0.2mol e^－

D．NF₃在潮湿的空气中泄漏会产生白雾、红棕色气体等现象

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