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  • 更新 2022-09-03
  • 科目 化学
  • 题型 选择题
  • 难度 中等
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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3 NF3 + 5 H2O =" 2" NO + HNO3 + 9 HF。下列有关该反应的说法正确的是

A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂
B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1
C.若生成0.2 mol HNO3,则转移0.2 mol电子
D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体
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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮