电子工业中清洗硅片上的SiO2（s）的反应是：SiO2（s）

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电子工业中清洗硅片上的SiO₂（s）的反应是：
SiO₂（s）＋4HF(g)＝Si F₄(g)＋2H₂O(g) ΔＨ(298.15K)＝－94.0 kJ·mol^－1 ΔＳ(298.15K)＝－75.8 J·mol^－1·K ^－1 ，设ΔＨ和ΔＳ不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件？

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下列离子方程式正确的是（）

A．向纯碱溶液中加入少量醋酸：CO₃^2—+H⁺=HCO₃^—

B．向明矾溶液中滴加过量氨水：Al³⁺+4OH^—=AlO₂^—+2H₂O

C．向稀硫酸中加入少量氢氧化钡溶液：H⁺+SO₄^2—+Ba²⁺+OH^—= BaSO₄↓+ H₂O

D．向烧碱溶液中通入少量二氧化碳：2OH^—+CO₂= CO₃^2—+ H₂O

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设N_A为阿伏加德罗常数的数值，下列说法错误的是（）

A．0．1 mol铁在0．1 mol Cl₂中充分燃烧，转移的电子数为0．2 N_A

B．标准状况下，5．6L水中含有的分子数为0．25N_A

C．20g D₂O中含有的质子数目为10N_A

D．标准状况下，22．4 LCO₂和O₂混合气体中含有的氧原子数为2N_A

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以节能减排为基础的低碳经济是保持社会可持续发展的战略举措。下列做法违背发展低碳经济的是（）

A．发展氢能和太阳能	B．限制塑料制品的使用
C．大力建设火电厂	D．提高原子利用率，发展绿色化学

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20℃时，KCl的溶解度为34g，若忽略固体溶解引起的溶液体积变化，则在该温度下，所配KCl溶液中KCl的物质的量浓度不可能是（）

A．2mol/L　

B．3mol/L

C．4mol/L

D．5mol/L

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某溶液中含有Cl^-、SO₄^2-、Fe³⁺、K⁺、M，且离子物质的量之比为2∶3∶1∶3∶2，则微粒M可能为

A．Na⁺

B．Ag⁺

C．Ba²⁺

D．Mg²⁺

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