电子工业中清洗硅片上的SiO2（s）的反应是：
SiO2（s）＋4HF(g)＝Si F4(g)＋2H2O(g) ΔＨ(298.15K)＝－94.0 kJ·mol－1 ΔＳ(298.15K)＝－75.8 J·mol－1·K －1 ，设ΔＨ和ΔＳ不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件？
相关试题
己烯雌酚是一种激素类药物，结构如下：
下列有关叙述中不正确的是
| A．它易溶于有机溶剂 |
| B．可与NaOH和Na2CO3溶液发生反应 |
| C．该有机物分子中一定有14个碳原子共平面 |
| D．1 mol该有机物可与5 mol Br2发生反应 |
可用于区别苯、甲苯、苯酚、四氯化碳四种无色液体，所选试剂正确的一组为
| A．氯化铁溶液、溴水 | B．NaOH溶液、溴水 |
| C．高锰酸钾溶液、溴水 | D．NaHCO3溶液、溴水 |
粤公网安备 44130202000953号