电子工业中清洗硅片上的SiO2（s）的反应是：
SiO2（s）＋4HF(g)＝Si F4(g)＋2H2O(g) ΔＨ(298.15K)＝－94.0 kJ·mol－1 ΔＳ(298.15K)＝－75.8 J·mol－1·K －1 ，设ΔＨ和ΔＳ不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件？
相关试题
下列说法正确的是
| A．光导纤维的主要成份是硅 |
| B．常用氢氟酸(HF)来刻蚀玻璃 |
| C．制普通玻璃的主要原料是烧碱、石灰石、石英 |
| D．实验室用带玻璃塞的试剂瓶保存氢氧化钠溶液 |
120 mL含有0.20 mol碳酸钠的溶液和200 mL盐酸，不管将前者滴加入后者，还是将后者滴加入前者，都有气体产生，但最终生成的气体体积不同，则盐酸的浓度合理的是
| A．2.0mol/L | B．1.5 mol/L | C．0.18 mol/L | D．0.24mol/L |
某溶液中，Fe3+、Cu2+、Fe2+的物质的量浓度之比为4:2:1，加入适量的铁粉，充分反应后，溶液中Fe3+、Cu2+、Fe2+的物质的量浓度之比变为1:1:2；则投入的铁粉与原溶液中Cu2+的物质的量之比为
| A．1:1 | B．1:2 | C．2:1 | D．2:3 |
是一种广泛应用于含磷化合物的结构分析和医疗诊断的核素，其原子核内含有15个中子
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