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  • 更新 2022-09-03
  • 科目 化学
  • 题型 选择题
  • 难度 较易
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电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是:
SiO2(s)+4HF(g)=Si F4(g)+2H2O(g) ΔH(298.15K)=-94.0 kJ·mol-1 ΔS(298.15K)=-75.8 J·mol-1·K -1 ,设ΔH和ΔS不随温度而变化,试求此反应自发进行的温度条件?

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电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是:SiO2(s)