电子工业中清洗硅片上的SiO2(s)的反应是: SiO2(s)+4HF(g)=Si F4(g)+2H2O(g) ΔH(298.15K)=-94.0 kJ·mol-1 ΔS(298.15K)=-75.8 J·mol-1·K -1 ,设ΔH和ΔS不随温度而变化,试求此反应自发进行的温度条件?
水是国家战略性经济资源,下列物质对水质不会产生严重污染的是()
下列有关实验原理、方法和结论都正确的是
常温下,下列各组离子在制定溶液中一定能大量共存的是
下列表示对应化学反应的离子方程式正确的是
.以KCl和ZnCl2混合液为电镀液在铁制品上镀锌,下列说法正确的是