电子工业中清洗硅片上的SiO2（s）的反应是：
SiO2（s）＋4HF(g)＝Si F4(g)＋2H2O(g) ΔＨ(298.15K)＝－94.0 kJ·mol－1 ΔＳ(298.15K)＝－75.8 J·mol－1·K －1 ，设ΔＨ和ΔＳ不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件？
相关试题
在密闭容器里，A与B反应生成C，其反应速率分别用
、
、
表示，已知2=3、3=2，则此反应可表示为
| A．2A+3B = 2C | B．A+3B = 2C |
| C．3A+B = 2C | D．A+ B = C |
下列说法中正确的是
| A．物质的溶解性为难溶，则该物质不溶于水 |
| B．不溶于水的物质溶解度为0 |
| C．某离子被沉淀完全是指该离子在溶液中的浓度为0 |
| D．绝对不溶解的物质是不存在的 |
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