电子工业中清洗硅片上的SiO2（s）的反应是：
SiO2（s）＋4HF(g)＝Si F4(g)＋2H2O(g) ΔＨ(298.15K)＝－94.0 kJ·mol－1 ΔＳ(298.15K)＝－75.8 J·mol－1·K －1 ，设ΔＨ和ΔＳ不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件？
相关试题
下列说法正确的是（ ）
| A．22．4 L氨气中含氢原子数目为3×6.02×1023 |
| B．1.8g水中所含质子数为0.1×6.02×1023 |
| C．标准状况下，4．48 L的氧气和氮气的混合物含有的分子数目为0.2×6.02×1023 |
| D．80 g苛性钠溶于1L水中，所得溶液的物质的量浓度为2 mol／L |
某溶液既能溶解Al(OH)3，又能溶解H2SiO3，在该溶液中可以大量共存的离子组是( )
| A．K+、Na+、HCO3－、NO3－ | B．Na+、SO42－、Cl-、ClO- |
| C．H+、Mg2+、SO42－、NO3－ | D．Ag+、K+、NO3－、Na+ |
将40mL 1.5 mol/L的CuSO4溶液与30mL 3 mol/L的NaOH溶液混合，生成浅蓝色沉淀，假如溶液中c(Cu2+)或c(OH-)都已变得很小，可忽略，则生成沉淀的组成可表示为（ ）
| A．Cu(OH)2 | B．CuSO4·Cu(OH)2 |
| C．CuSO4·2Cu(OH)2 | D．CuSO4·3Cu(OH)2 |
下列离子方程式中，正确的是（ ）
A．水玻璃中通入足量的CO2： ＋2CO2＋2H2O==H2SiO3↓＋2CO |
| B．氯化亚铁溶液中通入足量的Cl2：2Fe2+＋Cl2==2Fe3+＋2Cl- |
| C．NaHCO3溶液中加入足量NaHSO4溶液: 2H+＋CO==CO2↑＋H2O |
| D．NaHCO3溶液中加入过量的Ba(OH)2溶液：2HCO3—+ Ba2+ + 2OH—= BaCO3↓ +2H2O + CO32— |
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