电子工业中清洗硅片上的SiO2（s）的反应是：
SiO2（s）＋4HF(g)＝Si F4(g)＋2H2O(g) ΔＨ(298.15K)＝－94.0 kJ·mol－1 ΔＳ(298.15K)＝－75.8 J·mol－1·K －1 ，设ΔＨ和ΔＳ不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件？
相关试题
下列各组在溶液中的反应，无论反应物的量多少，都能用同一离子方程式表示的是
| A．Ba(OH)2与H2SO4 | B．FeBr2与Cl2 |
| C．HCl与Na2CO3 | D．NaHCO3与Ca(OH)2 |
下列离子方程式正确的是
| A．向漂白粉溶液中通入少量二氧化硫:Ca2++2ClO-+SO2+H2O=CaSO3↓+2HClO |
B．稀硝酸中加入过量铁粉：Fe+4H＋+NO =Fe3＋+NO↑+2H2O |
| C．溴化亚铁溶液中通入足量氯气：2Fe2＋+2Br－+2Cl2=2Fe3＋+Br2+4Cl－ |
D．苯酚钠溶液中通入少量二氧化碳： |
还原2.4×10-3mol XO(OH)3+ 到X元素的低价态时，需消耗30mL0.2mol·
的亚硫酸钠溶液，则在此反应中X元素的低价态为
| A．0价 | B．＋1价 | C．-1价 | D．-2价 |
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