电子工业中清洗硅片上的SiO2（s）的反应是：
SiO2（s）＋4HF(g)＝Si F4(g)＋2H2O(g) ΔＨ(298.15K)＝－94.0 kJ·mol－1 ΔＳ(298.15K)＝－75.8 J·mol－1·K －1 ，设ΔＨ和ΔＳ不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件？
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下列叙述不正确的是
| A．光照氯水有气泡逸出，该气体是Cl2 |
| B．工业上可用碳在高温下还原二氧化硅制取硅 |
| C．工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉 |
| D．将盛有氢氧化铁胶体的烧杯置于暗处，用一束光照射，从垂直于光线的方向可以观察到一条光亮的通路 |
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