电子工业中清洗硅片上的SiO2（s）的反应是：
SiO2（s）＋4HF(g)＝Si F4(g)＋2H2O(g) ΔＨ(298.15K)＝－94.0 kJ·mol－1 ΔＳ(298.15K)＝－75.8 J·mol－1·K －1 ，设ΔＨ和ΔＳ不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度条件？
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下列判断正确的是（）
| A．元素周期表中查得的相对原子质量为同使素的相对原子质量 |
| B．化学键的变化一定会引起化学反应的变化 |
| C．酸性氧化物一定是非金属氧化物 |
| D．钢铁在海水中比在河水中更易腐蚀，主要原因是海水含氧量高于河水 |
的正确命名为（）
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