A的分子式为C2H6O2,以A为原料,按下图所示流程合成一种常用的光敏高分子材料G,其结构简式为:。
已知:①—CH2OH+—CH2OH—CH2OCH2—+H2O
②++H2O
请回答下列问题:
(1)A的名称是 :F—→G的反应类型是
B的核磁共振氢谱上共有 种吸收峰。
C的结构简式是 。
A—→B的化学方程式是 。
B+D—→E的化学方程式是 。
写出同时满足下列条件的D的所有同分异构体的结构简式:
①属于酯类且苯环上只有一个取代基 ②除苯环外不再含其他环状结构